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日本 Filgen 自動(dòng)等離子體鍍膜機(jī) OPC-EVO：先進(jìn)工藝與廣泛應(yīng)用

發(fā)布時(shí)間： 2025-09-17　　點(diǎn)擊次數(shù)： 188次

一、技術(shù)參數(shù)
日本 Filgen 自動(dòng)等離子體鍍膜機(jī) OPC-EVO 是一款高性能的真空鍍膜設(shè)備，其技術(shù)參數(shù)如下：
真空室尺寸：提供多種規(guī)格的真空室，以滿足不同尺寸工件的鍍膜需求。
加熱溫度：最高加熱溫度可達(dá) 600°C，確保各種材料的均勻加熱和沉積。
真空泵抽速：高低真空泵抽速可調(diào)，確保鍍膜過程中真空環(huán)境的穩(wěn)定。
膜厚控制精度：采用高精度膜厚控制儀，控制精度可達(dá)納米級(jí)別。
離子源類型：配備射頻離子源（RF 離子源），具有無(wú)燈絲損耗、壽命長(zhǎng)、離子密度高、工作氣壓范圍寬等特點(diǎn)。
二、應(yīng)用場(chǎng)景
（一）半導(dǎo)體領(lǐng)域
OPC-EVO 在半導(dǎo)體制造中發(fā)揮著重要作用。通過等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積（PECVD）技術(shù)，可制備高質(zhì)量的半導(dǎo)體薄膜，如 Si、Ge 等。這些薄膜在半導(dǎo)體芯片的制造中用于形成絕緣層、保護(hù)層和導(dǎo)電層，確保芯片的高性能和可靠性。
（二）光學(xué)領(lǐng)域
在光學(xué)領(lǐng)域，OPC-EVO 可用于制備光學(xué)薄膜，如 ITO 透明導(dǎo)電膜。這些薄膜廣泛應(yīng)用于光學(xué)鏡片、顯示器、太陽(yáng)能電池等領(lǐng)域，用于提高光學(xué)性能和導(dǎo)電性能。
（三）柔性電子領(lǐng)域
柔性電子薄膜的制備也是 OPC-EVO 的重要應(yīng)用之一。通過精確控制鍍膜參數(shù)，可制備出具有良好柔韌性和導(dǎo)電性的薄膜，用于可穿戴設(shè)備、柔性顯示器等新興領(lǐng)域。
（四）材料表面改性
OPC-EVO 還可用于材料表面改性，如硬化和耐腐蝕處理。通過離子輔助沉積技術(shù)，可在材料表面形成一層高硬度、高耐腐蝕性的薄膜，延長(zhǎng)材料的使用壽命。
三、工藝流程
（一）前處理
在鍍膜前，需要對(duì)工件進(jìn)行嚴(yán)格的前處理，以確保鍍層與基材的良好結(jié)合。前處理通常包括以下步驟：
熱浸脫脂：利用堿性溶液去除工件表面的油脂和氧化物。
電解脫脂：通過電解作用進(jìn)一步去除工件表面的污垢。
活化：利用酸洗等方法去除工件表面的氧化物，使表面活化。
（二）鍍膜
前處理完成后，將工件放入真空室中，通過射頻離子源產(chǎn)生高密度等離子體，進(jìn)行鍍膜操作。在鍍膜過程中，通過精確控制離子源參數(shù)、氣體流量和真空度，確保鍍層的均勻性和質(zhì)量。
（三）后處理
鍍膜完成后，需要對(duì)工件進(jìn)行后處理，如干燥和檢驗(yàn)。干燥過程中，確保工件表面的鍍層固化。檢驗(yàn)環(huán)節(jié)則對(duì)鍍層的厚度、均勻性、結(jié)合力等進(jìn)行檢測(cè)，確保鍍膜質(zhì)量符合要求。
日本 Filgen 自動(dòng)等離子體鍍膜機(jī) OPC-EVO 憑借其先進(jìn)的技術(shù)參數(shù)和廣泛的工藝應(yīng)用，已成為半導(dǎo)體、光學(xué)、柔性電子等領(lǐng)域的設(shè)備。其高精度的膜厚控制和穩(wěn)定的真空環(huán)境，確保了高質(zhì)量鍍膜的實(shí)現(xiàn)，為現(xiàn)代科技的發(fā)展提供了有力支持。

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日本 Filgen 自動(dòng)等離子體鍍膜機(jī) OPC-EVO：先進(jìn)工藝與廣泛應(yīng)用

一、技術(shù)參數(shù)

二、應(yīng)用場(chǎng)景

（一）半導(dǎo)體領(lǐng)域

（二）光學(xué)領(lǐng)域

（三）柔性電子領(lǐng)域

（四）材料表面改性

三、工藝流程

（一）前處理

（二）鍍膜

（三）后處理

三、工藝流程